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12.7 HFSS差分信號分析之 數(shù)據(jù)后處理

    在端口 P2 端接 50歐姆負(fù)載時，把差分信號線上的輸入信號分別設(shè)置為等幅同相的共模信號和等幅反相的差模信號，查看兩種情況下端口 P1 處的電場矢量分布圖。

    （1）右鍵單擊工程樹下的 Field Overlays 節(jié)點(diǎn)，從彈出菜單中選擇【Edit Sources】命令，打開如圖 12.33 所示的Edit Sources 對話框，設(shè)置激勵端口的信號。

圖 12.33 Edit Sources 對話框

    （2）在 Edit Sources 對話框中，選中 Trace2_T2 和 Trace1_T2 對應(yīng)的 Terminated 復(fù)選框，把Trace1_T1 對應(yīng)的 Scaling Factor 由 0 改為1，然后單擊按鈕結(jié)束。這樣就設(shè)置了端口 P2 上的兩根差分線端接50歐姆負(fù)載，端口 P1 上的兩根差分信號線的輸入信號是等幅同相的共模信號。 

   （3）展開操作歷史樹 Sheets 節(jié)點(diǎn)下的 Wave Port 節(jié)點(diǎn)，單擊選中 Wave Port 節(jié)點(diǎn)下的 Port1。

    （4）右鍵單擊工程樹下的 Field Overlays 節(jié)點(diǎn)，從彈出菜單中選擇【Plot Fields】→【E】 →【Vector_E】命令，打開如圖 12.34 所示的 Create Field Plot 對話框，對話框保持默認(rèn)設(shè)置， 單擊按鈕。此時，即在 Port1 面上創(chuàng)建了矢量電場的分布圖。同時，矢量電場分布圖的名稱 Vector_E1 會添加到工程數(shù)的 Field Overlays 節(jié)點(diǎn)下。

圖 12.34 “電場矢量分布設(shè)置”對話框

    （5）展開工程樹下的 Field Overlays 節(jié)點(diǎn)，右鍵單擊 Field Overlays 節(jié)點(diǎn)下的 E Field，從 右鍵彈出菜單中選擇【Modify Attributes】命令，打開如圖 12.35 所示的“場分布圖屬性”對話框，修改電場分布圖的屬性。

圖 12.35 “場分布圖屬性”對話框

    （6）單擊對話框的 Scale 選項卡，選中 Log 單選按鈕；單擊對話框的 Maker/Arrow 選項卡，取消選中 Map Size 和 Arrow Tail 復(fù)選框。然后單擊結(jié)束。 

    （7）最后創(chuàng)建的共模信號矢量電場分布如圖 12.36 所示。

圖 12.36 端口 P1 上共模信號的電場分布圖

    （8）重復(fù)步驟（1）～ 步驟（4），在端口 P1 上創(chuàng)建差模信號電場矢量分布。其中，在步驟（2）中，需要把Trace2_T1 對應(yīng)的 Offset Phase 由 0deg 改為 180deg，以設(shè)置端口P1 上 兩根差分信號線的輸入信號為等幅反相的差模信號。最后，生成的差模信號電場分布如圖 12.37 所示。

圖 12.37 端口 P1 上差模信號的電場分布圖

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